半導體溫控裝置-循環(huán)風控溫系統(tǒng)

半導體溫控裝置-循環(huán)風控溫系統(tǒng)

　　循環(huán)風控溫裝置在半導體設(shè)備高低溫測試中能夠為用戶提供一個受控、恒溫均勻的溫控環(huán)境，同時具備直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的功能，實現(xiàn)全量程范圍內(nèi)的溫度準確控制。

　　一、循環(huán)風控溫裝置技術(shù)參數(shù)

　　在半導體高低溫測試中，循環(huán)風控溫裝置通過準確的溫度循環(huán)和沖擊測試，驗證設(shè)備在嚴苛環(huán)境下的可靠性。主流設(shè)備與技術(shù)參數(shù)如下：

　　AI系列循環(huán)風裝置：溫度范圍：-105℃~+125℃；精度：±0.5℃；模塊化設(shè)計，支持備用機組熱切換，自動化霜、獨立循環(huán)風道，適用于多場景快速構(gòu)建高低溫環(huán)境

　　高低溫沖擊測試機（AES系列）：溫度范圍：-115℃~+225℃；精度：±0.5℃；射流式氣流設(shè)計，模擬嚴苛溫度沖擊，評估材料熱脹冷縮應力及電性能穩(wěn)定性

　　快速溫變控溫卡盤（MD系列）：溫度范圍：-75℃~+225℃，提供開放測試平臺，支持RF器件及功率模塊在快速溫變下的失效分析

　　二、循環(huán)風控溫裝置測試場景

　　1、技術(shù)優(yōu)勢：

　　模塊化擴展：AI系列設(shè)備支持積木式拼接，可快速構(gòu)建-65℃~+125℃恒溫箱或高低溫沖擊室，減少部署周期。

　　自適應PID控制：結(jié)合傳感器實時反饋，溫度波動控制在±0.,5℃以內(nèi)，滿足半導體封裝工藝對溫度均勻性的嚴苛要求。

　　多介質(zhì)兼容性：支持氮氣、氬氣等惰性氣體環(huán)境測試，避免樣品氧化，適用于光電子器件敏感性測試。

　　2、典型測試場景：

　　芯片可靠性驗證：通過-40℃~120℃快速溫變循環(huán)（速率>5℃/min），檢測焊點開裂、封裝材料分層等失效模式。

　　材料特性分析：在-80℃~+200℃范圍內(nèi)，評估陶瓷基板、導熱膠等材料熱膨脹系數(shù)匹配性，優(yōu)化散熱設(shè)計。

　　工藝參數(shù)調(diào)優(yōu)：模擬晶圓測試環(huán)節(jié)的溫度波動，驗證探針卡接觸穩(wěn)定性及測試機抗干擾能力。